反滲透純化水設備-注射水機加工生產(chǎn)廠(chǎng)家-純化水設備

一、 設計基礎

1.1本方案涉及的流程及設備是為了滿(mǎn)足：生產(chǎn)工藝用水項目，要求如下：

1.1.1產(chǎn)水用途：半導體用水

1.1.2系統總進(jìn)水量：預處理：10.0m³/hr

1.1.3系統出力：一級RO純水處理：6.0m³/hr；回收率：60%；

二級RO純水處理：5.0m³/hr；回收率：85%；

15%的濃水回流至一級RO純水系統

EDI純水處理：5.0m³/hr；回收率: 90%；

10%的濃水回流至二級RO純水系統

1.1.4終端產(chǎn)水水質(zhì)：拋光混床電阻率：≥18MΩ.CM

                     TOC≤10μg/L

                     微粒子數:0.1μm以上≤10個(gè)/ml

                     細菌個(gè)/ml≤0.01

1.1.5運行方式：自動(dòng)運行（并具備手動(dòng)操作功能）。